流体处置系统和光刻设备.pdfVIP

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2023-05-07 发布于北京
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流体处置系统和光刻设备.pdf

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流体处置系统，用于润湿衬底的表面的由辐射束照射的区域。所述流体处置系统包括第一装置(112)，其被配置成将第一液体限制在该第一装置的至少一部分与衬底的表面之间的第一空间(111)中。该第一装置包括形成在其中的孔(10)以供使所述辐射束(B)传递通过以穿过第一液体照射该区域。该第一装置包括被配置成向第一空间提供第一液体的至少一个第一液体供应构件(20，23，34)、和被配置成从第一空间移除液体的至少一个提取构件(32)。流体处置系统还包括第二装置(200)，其包括被配置成向该第二装置的至少一部分与

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114402263 A (43)申请公布日 2022.04.26 (21)申请号 202080064265.1 (74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任