一种处理选择性催化还原装置泄漏氨的催化剂及其制备方法.pdfVIP

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2023-05-08 发布于北京
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一种处理选择性催化还原装置泄漏氨的催化剂及其制备方法.pdf

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本公开涉及一种处理选择性催化还原装置泄漏氨的催化剂及其制备方法，所述催化剂包括载体、依次覆于所述载体的至少部分孔道表面的内活性涂层和外活性涂层。本公开催化剂载体的至少部分孔道表面涂覆有内活性涂层和外活性涂层，形成双活性涂层结构，其中内活性涂层能够将SCR装置泄漏的NH3氧化成NOx，实现SCR装置泄漏NH3的高效、可靠净化；同时，外活性涂层的SCR催化活性成分能够催化前述NH3氧化生成的NOx和SCR系统未净化的NOx与剩余的泄漏NH3之间的SCR反应，从而进一步实现SCR装置泄漏NH3及未净化

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114425410 A (43)申请公布日 2022.05.03 (21)申请号 202010997283.7 B01J 35/04 (2006.01)