标准片及其制备方法、机差校准方法.pdfVIP

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2023-05-08 发布于北京
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标准片及其制备方法、机差校准方法.pdf

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本公开涉及半导体技术领域，公开了一种标准片及其制备方法、机差校准方法；该标准片包括基板、第一图案层以及第二图案层；基板具有相对设置的第一面和第二面；第一图案层设于基板的第一面；第二图案层设于基板的第二面，第一图案层在基板上的正投影与第二图案层在基板上的正投影重合。在将标准片进行正面测试时，第一图案层位于测试侧，对第一图案层进行测试；在将标准片进行翻转测试时，第二图案层位于测试侧，对第二图案层进行测试；因此，可以避免光线的散射对TP测试设备校准造成的影响。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114415476 A (43)申请公布日 2022.04.29 (21)申请号 202210056141.X (22)申请日 2022.01.18 (71)申请人京东方科技集团股份有限公司