阵列基板的栅极断线修复方法、阵列基板和显示装置.pdfVIP

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2023-05-08 发布于北京
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阵列基板的栅极断线修复方法、阵列基板和显示装置.pdf

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本公开实施例提供一种阵列基板的栅极断线修复方法、阵列基板和显示装置。所述栅极断线修复方法包括以下步骤：形成第一金属层，并对所述第一金属层进行曝光和刻蚀，形成栅极电路，检测栅极断线点位；形成第二金属层、对所述第二金属层进行曝光，对曝光后的第二金属层进行光刻胶修复和刻蚀，形成源漏电路；对形成的阵列基板进行断线修补。本公开实施例的技术方案针对外围双层金属配线，通过前置源漏电路光刻胶修复，使得光刻胶修复后刻蚀源漏电路金属层的方式将在双层金属区修复配线转变为在单层金属区修复配线，从而提升外围双层配线区栅极

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114420709 A (43)申请公布日 2022.04.29 (21)申请号 202210050250.0 (22)申请日 2022.01.17 (71)申请人京东方科技集团股份有限公司