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本发明公开了一种磁控溅射卷绕镀膜设备的防镀膜偏移装置，涉及防镀膜偏移技术领域，用于解决现有技术中卷膜式镀膜设备对带状材料进行镀膜时，带状材料会出现偏移的现象，从而极大的影响了带状材料镀膜质量的问题，本发明包括第一支架和控制器，所述第一支架上安装有旋转机构，所述旋转机构上安装有第二支架，所述第二支架上安装有滚筒组件，所述第二支架的两端还均安装有光栅，所述光栅、旋转机构均与控制器电性连接。本发明通过光栅检测带状材料的偏转角度，再将偏转角度反馈给旋转机构，旋转机构再通过光栅反馈的数据做出相应的转动，最
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114411109 A
(43)申请公布日 2022.04.29
(21)申请号 202111577656.6
(22)申请日 2021.12.21
(71)申请人 成都中科唯实仪器有限责任公司
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