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本发明公开了电子级多晶硅CVD炉内破碎方法和装置,所述方法包括:(1)在CVD炉内的硅棒生长完成后,关闭原料进口和尾气出口,向炉内吹扫保护气体,以便对所述硅棒降温;(2)当所述硅棒的温度降至600‑800℃时,加速向炉内吹扫保护气体,以便对所述硅棒快速降温;(3)当所述硅棒的温度降至60℃以下时,停止吹扫保护气体,将底座套筒板分别与炉筒和底座套筒解除固定;(4)将所述炉筒吊起,旋转所述底座套筒板,将所述硅棒切倒,以便使所述硅棒倒在所述底座套筒板上破碎。本发明减少生产能耗,减少了生产工序,提高生产
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114405636 A
(43)申请公布日 2022.04.29
(21)申请号 202210134709.5
(22)申请日 2022.02.14
(71)申请人 江苏鑫华半导体材料科技有限公司
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