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一种套刻量测系统矫正方法，包括：将晶圆置于初始位置；获取当前套刻偏差反映在晶圆层面的旋转量；计算N个信号点当前的统计套刻旋转偏差；重复进行沿光轴方向移动晶圆的步骤，并在移动晶圆后，获取当前套刻偏差反映在晶圆层面的旋转量并计算N个信号点当前的统计套刻旋转偏差，直至所述晶圆移动范围达到预定移动范围；获取所述统计套刻旋转偏差与所述晶圆移动位置的关系图表，以得到最优移动位置；沿光轴方向移动晶圆至最优移动位置，完成矫正，最优移动位置为统计套刻旋转偏差为0值时对应的晶圆移动位置。矫正方法有助于消除信号点处于
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114428444 A
(43)申请公布日 2022.05.03
(21)申请号 202011185631.7
(22)申请日 2020.10.29
(71)申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限
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