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本发明实施例提供一种场效应晶体管及其制造方法,涉及半导体技术领域,可降低短沟道效应的影响。一种场效应晶体管的制造方法,所述场效应晶体管具有源区、漏区、以及沟道区;所述场效应晶体管的制造方法包括:在半导体衬底上形成栅极氧化层;在所述沟道区,沿所述沟道长度的方向,所述栅极氧化层中靠近所述源区的部分为第一部分,所述栅极氧化层中靠近所述漏区的部分为第二部分,所述第一部分的厚度小于所述第二部分的厚度。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114496790 A
(43)申请公布日 2022.05.13
(21)申请号 202011173860.7
(22)申请日 2020.10.28
(71)申请人 中国科学院微电子研究所
地址 10
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