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本发明提供一种可抑制在被处理基板的外边缘部处的局部升温的溅射装置。本发明的溅射装置(SM)具有:将靶(2)和被处理基板(Sw)相对配置的真空室;以及挡板(5),其在真空室内围绕靶和被处理基板之间的成膜空间(1a);所述溅射装置上设置有对挡板进行冷却的冷却单元,挡板具有配置在被处理基板周围的第一挡板部(5a),其具有使被处理基板面向成膜空间的第一开口(51),所述第一开口与该被处理基板具有同样的轮廓,冷却单元具有第一冷媒通道(55),其设置在第一挡板部上,并具有延伸到位于第一开口周围的第一挡板部的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114481058 A
(43)申请公布日 2022.05.13
(21)申请号 202111281677.3
(22)申请日 2021.11.01
(30)优先权数据
2020-188813 202
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