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本发明公开了一种仿钻真空镀膜工艺及其所用的仿钻真空镀膜机,镀膜机包括真空腔体、抽真空装置、工作气体提供装置、表面有与仿钻镀膜面外形匹配的坑穴的主辊、入料仓、皮带输送机构、阳极层离子源、磁控溅射靶和位于皮带输送机构输送末端的收料仓,主辊转动安装于真空腔体内,用于容纳仿钻的入料仓的出料端与主辊圆周外侧表面正对,用于输送仿钻的皮带输送机构的皮带紧密包覆于主辊外侧,用于发射离子束阳极层离子源和用于镀膜的磁控溅射靶顺序排列于皮带正上方,其工艺为对真空腔体抽真空并给皮带制冷后,给真空腔体充工作气体并启动离子
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114481079 A
(43)申请公布日 2022.05.13
(21)申请号 202111583968.8
(22)申请日 2021.12.22
(71)申请人 昆山浦元真空技术工程有限公司
地址
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