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一种半导体装置与其制造方法,半导体装置可包括一源极,此源极位于一栅极的一第一侧上。半导体装置可包括一漏极,此漏极位于栅极的一第二侧上,其中栅极的第二侧相对于栅极的第一侧。半导体装置可包括位于源极上方的一第一触点。半导体装置可包括位于漏极上方的一第二触点。半导体装置可包括位于栅极上方的一气隙,其中栅极位于至少第一触点与第二触点之间。半导体装置可包括至少两个介电材料,位于气隙与第一触点之间的一区域以及气隙与第二触点之间的一区域的各者中。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114464664 A
(43)申请公布日 2022.05.10
(21)申请号 202110400179.X H01L 29/78 (2006.01)
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