一种CMP研磨垫及CMP研磨装置.pdfVIP

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2023-05-09 发布于四川
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一种CMP研磨垫及CMP研磨装置.pdf

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本发明提供了一种CMP研磨垫及CMP研磨装置，该CMP研磨垫包括一个圆盘状的研磨垫。还包括设置在研磨表面上的多个圆环形沟槽，多个圆环形沟槽呈同心圆状由研磨垫的中心向研磨垫的边缘依次排布。研磨表面划分为N个研磨区。该N个研磨区包括位于研磨垫中心处且呈圆形第一研磨区，还包括呈同心圆状由研磨垫的中心向边缘依次排布的第二研磨区至第N研磨区。第二研磨区至第N研磨区中的每个研磨区上均穿设有连通该研磨区上任意相邻的两个圆环形沟槽的通孔。通过在第二研磨区至第N研磨区中的每个研磨区上均穿设有通孔，调节不同研磨区中

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114473856 A (43)申请公布日 2022.05.13 (21)申请号 202011257722.7 (22)申请日 2020.11.11 (71)申请人中国科学院微电子研究所地址 10