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碳化硅基底的膜厚质量评估方法,属于半导体技术领域,包括以下步骤:S1∶选择碳化硅基底,在所述碳化硅基底上进行膜层生长;S2∶选择若干个测量角和波长范围,使用光谱椭偏仪测量相位变化和振幅衰减,根据评价函数MSE公式,得出MSE最小值;S3∶选定测量的若干位置,根据所述MSE最小值对应的测量角和波长范围,得出若干位置的膜厚di和评价函数MSEi;S4∶基于所述评价函数MSEi,得到权重系数Wi;S5∶根据公式计算并得到膜厚均值和膜厚均匀性。本发明通过评价函数和权重系数,计算得到膜厚均值和膜厚均匀性,
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114493139 A
(43)申请公布日 2022.05.13
(21)申请号 202111627483.4
(22)申请日 2021.12.28
(71)申请人 浙江大学杭州国际科创中心
地址 3
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