一种集成电路低压化学气相沉积系统.pdfVIP

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2023-05-09 发布于四川
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一种集成电路低压化学气相沉积系统.pdf

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本发明公开了一种集成电路低压化学气相沉积系统，涉及化学气相沉积技术领域。该集成电路低压化学气相沉积系统，包括气相沉积机构，所述气相沉积机构设置有固定板，所述固定板的左侧固定连接有灰尘过滤机构，且气相沉积机构与灰尘过滤机构固定连接，所述固定板的外壁固定连接有灰尘清理机构，且气相沉积机构与灰尘清理机构固定连接。该集成电路低压化学气相沉积系统，通过过滤网软性材料，过滤网位于固定板孔内的位置会陷入，进而使灰尘可以跟随气流的移动，移动到过滤网陷入的位置，灰尘堆积在一起后更易于成团，而且过滤网的一处凹陷，可

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114470992 A (43)申请公布日 2022.05.13 (21)申请号 202210075158.X (22)申请日 2022.01.22 (71)申请人郭芳地址 610000 四川省成