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本发明公开一种等离子气相沉积制备疏水膜的方法。所述方法包括以下步骤:基材的活化处理;将镀膜材料汽化;所述镀膜材料具有对称结构且含有硅元素;将汽化的镀膜材料通入反应腔,开启射频电源,设定射频功率和真空度,以在基材表面沉积镀膜材料形成疏水膜。该方法在不影响基材性质的情况下,通过等离子化学气相沉积在基材表面生成厚度达到纳米级别的环保疏水膜。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114453213 A
(43)申请公布日 2022.05.10
(21)申请号 202111629022.0
(22)申请日 2021.12.28
(71)申请人 佛山市思博睿科技有限公司
地址 5
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