加热组件、基片承载组件及其等离子体处理装置.pdfVIP

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2023-05-09 发布于北京
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加热组件、基片承载组件及其等离子体处理装置.pdf

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一种加热组件、基片承载组件及其等离子体处理装置，其中加热组件包括：第一绝缘层；第一副加热区域，位于所述第一绝缘层内，包括若干个第一加热器；第二绝缘层；第二副加热区域，位于所述第二绝缘层内，包括若干个第二加热器，一个第二加热器通过一根第一导线串联至一个第一加热器；若干个电源供应线，其中一个电源供应线电连接至若干个第一加热器；若干个电源返回线，其中一个电源返回线电连接至若干个第二加热器。所述加热组件能够在使用较少引出线的情况下使基片达到较好的温度分布。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114496692 A (43)申请公布日 2022.05.13 (21)申请号 202011252508.2 (22)申请日 2020.11.11 (71)申请人中微半导体设备（上海）股份有限公