一种压印母版及其制备方法.pdfVIP

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2023-05-09 发布于四川
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一种压印母版及其制备方法.pdf

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本发明提供一种压印母版及其制备方法，涉及微纳加工技术领域，包括：基底，在基底上设置有图案化结构，在图案化结构的刻蚀槽内的底壁和侧壁上设置有压印疏水膜层；压印疏水膜层的材质为含氟聚合物；图案化结构为硅基材质，且硅基材质中硅元素的质量分数为10％至100％；或，图案化结构为钼基材质，且钼基材质中钼元素的质量分数为10％至100％。从而能够使得图案化结构的每一个刻蚀槽内均对应形成致密的含氟聚合物，有效的避免了阴影效应导致的成膜质量较差的现象，同时，含氟气体的来源较为广泛，有效的降低制造压印母版的成本，

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114488686 A (43)申请公布日 2022.05.13 (21)申请号 202011159005.0 (22)申请日 2020.10.26 (71)申请人浙江水晶光电科技股份有限公司地址