一种电子束蒸发台坩埚组件的清理方法.pdfVIP

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2023-05-09 发布于北京
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一种电子束蒸发台坩埚组件的清理方法.pdf

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本发明涉及一种电子束蒸发台坩埚组件的清理方法，属于半导体加工技术领域。操作步骤如下：(1)涂层制作：在使用坩埚上方放置档板，使用氮化硼喷剂在档板上方进行喷涂一层氮化硼，使氮化硼喷剂均匀的分布在坩埚侧壁上，喷涂完成后将档板取走；(2)坩埚使用：蒸镀金属；(3)坩埚侧壁清理。本发明在坩埚侧壁上喷涂氮化硼喷剂，使坩埚侧壁和金属层之间粘附程度较低，方便积聚大量金属层，清理去除操作方便，且氮化硼喷剂涂层能够耐受住1000摄氏度以上的高温环境，保证坩埚内蒸发源能够正常熔化同时，坩埚侧壁上的材料不会发生熔化而

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114481042 A (43)申请公布日 2022.05.13 (21)申请号 202011163179.4 (22)申请日 2020.10.27 (71)申请人山东浪潮华光光电子股份有限公司地址