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在一些实施例中，本发明涉及一种形成电容器结构的方法。该方法包括在下电极层上方形成电容器介电层，以及在电容器介电层上方形成上电极层。蚀刻该上电极层以限定上电极并且暴露电容器介电层的一部分。在上电极层和电容器介电层的水平延伸表面上方并且还沿着该上电极的侧壁形成间隔件结构。蚀刻间隔件结构，以从上电极层和电容器介电层的水平延伸表面上方除去间隔件结构并且限定间隔件。根据间隔件蚀刻电容器介电层和下电极层，以限定电容器电介质和下电极。本发明的实施例还涉及金属‑绝缘体‑金属电容器结构。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114530555 A
(43)申请公布日 2022.05.24
(21)申请号 202210084457.X
(22)申请日 2022.01.25
(30)优先权数据
63/145,879 2021
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