具有用于分配一起反应的两种或更多种流体的防堵塞喷射顶端的分配系统和装置.pdfVIP

具有用于分配一起反应的两种或更多种流体的防堵塞喷射顶端的分配系统和装置.pdf

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本发明提供了一种用于分配一起反应的流体的喷射顶端,该喷射顶端包括用于第一流体的第一管腔、用于第二流体的第二管腔以及位于相应的第一管腔和第二管腔的远侧端部处并限定该喷射顶端的远侧端部的分配顶盖。该分配顶盖包括限定该分配顶盖的闭合端的远侧端壁、形成于该远侧端壁中的与该第一管腔流体连通的第一喷射开口、形成于该远侧端壁中的与该第二管腔流体连通的第二喷射开口,以及从该分配顶盖的该远侧端壁朝远侧突出并在该第一喷射开口与该第二喷射开口之间延伸以形成该第一喷射开口与该第二喷射开口之间的阻隔件的外部分隔壁。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114513992 A (43)申请公布日 2022.05.17 (21)申请号 202080069497.6 (74)专利代理机构 中国专利代理(香港)有限公

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