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本申请涉及一种OVD沉积工艺的生产系统及OVD沉积工艺,光棒夹持装置组设于反应腔室内,并用于对芯棒进行夹持、旋转以及驱使芯棒在水平方向上做往复直线运动;多喷灯沉积设备组设于反应腔室内,且其沉积区域至少部分覆盖于芯棒;喷灯补料设备可移动地组设于反应腔室内,且其沉积区域至少部分覆盖于芯棒;测径装置可移动地组设于反应腔室内,并用于检测芯棒的外径;控制装置与光棒夹持装置、多喷灯沉积设备、喷灯补料设备和测径装置相连接,并用于控制光棒夹持装置、多喷灯沉积设备工作,以及根据测量的外径与设定外径分布标准曲线,控
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114507006 A
(43)申请公布日 2022.05.17
(21)申请号 202210198810.7
(22)申请日 2022.03.02
(71)申请人 武汉烽火锐拓科技有限公司
地址 4
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