一种高分子阻隔膜及其制备方法.pdfVIP

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2023-05-10 发布于北京
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一种高分子阻隔膜及其制备方法.pdf

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本发明涉及薄膜封装技术领域，公开了一种高分子阻隔膜及其制备方法。所述高分子阻隔膜由下至上依次包括高分子基膜、第一阻隔层、第二阻隔层；所述第一阻隔层面沉积于所述高分子基膜上表面，所述第二阻隔层面沉积于所述第一阻隔层上表面；且对于所述第一阻隔层与所述第二阻隔层，一层包括含氟光敏树脂；另一层包括光敏树脂、硅烷偶联剂，及均匀分散于所述光敏树脂、硅烷偶联剂内的含硅纳米粒子。所述阻隔膜不但有利于阻隔膜成本降低，还实现了长期有效的水氧阻隔作用。所述制备方法采用连续溶液加工工艺进行所述高分子阻隔膜的制备，具有制

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114507372 A (43)申请公布日 2022.05.17 (21)申请号 202111652898.7 C08L 67/00 (2006.01) (22)申请日 2021.12.