清洁系统、曝光机台及清洁方法.pdfVIP

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2023-05-10 发布于北京
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清洁系统、曝光机台及清洁方法.pdf

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本发明提出一种清洁系统、曝光机台及清洁方法；清洁系统集成于曝光机台中，曝光机台包含浸没罩及可平移地设置于浸没罩下方的工作台；清洁系统包含图像采集单元、清洁单元以及控制单元；图像采集单元设置于工作台表面，用以采集浸没罩的通孔的图像信息；清洁单元包含清洁管及真空泵，清洁管设置于工作台内部，且一端由工作台顶面伸出，真空泵连接于清洁管另一端；控制单元电连接于图像采集单元和真空泵；控制单元用以根据图像信息判断通孔是否堵塞，控制工作台平移，使清洁管一端位于堵塞的通孔的正下方，并控制真空泵通过清洁管对堵塞的通

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114518696 A (43)申请公布日 2022.05.20 (21)申请号 202011313117.7 (22)申请日 2020.11.20 (71)申请人长鑫存储技术有限公司地址 230