一种高亮度镀铟薄膜及其镀膜工艺.pdfVIP

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2023-05-10 发布于北京
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一种高亮度镀铟薄膜及其镀膜工艺.pdf

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本发明公开了一种高亮度镀铟薄膜及其镀膜工艺，包括依次设于膜片上的打底层、介质膜层、铟层及第一保护层；所述打底层采用Si材料或ZRO2材料，用于防止膜层脱落，提高膜层附着力满足产品环测要求；所述介质膜层采用高折射率材料和低折射率材料交替循环叠加，作用在于与铟层一起提高整个膜层反射率，实现更高的亮度；所述铟层采用纯铟膜层；第一保护层采用高折射率材料，用于保护铟层，防止铟层被氧化和刮伤。与传统的镀制纯铟相比，本发明增加介质膜层，增加铟两侧Si保护层，膜层亮度更高，色度值L可以达到88‑95，膜层颜色可

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114509834 A (43)申请公布日 2022.05.17 (21)申请号 202111618825.6 C23C 14/18 (2006.01)