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本发明公开了一种轻质高性能电路的精密制备方法,包括:步骤S1:制作电路的基材层和预浸料层;步骤S101:将PMI泡沫原材料烘干,并基于基材层设计形状采用数控加工的方式完成曲面加工;步骤S102:在PMI泡沫表面敷制环氧树脂基或者氰酸酯树脂基预浸料;步骤S103:基于基材层预设外型面制作阴模;步骤S104:将敷制好预浸料的PMI基材置于阴模中,在高温高压下固化,其中温度和压力基于预浸料种类设置;步骤S105:将固化后的PMI基材层连同预浸料层进行脱模处理;步骤S2:制作传输电路层;步骤S3:制作电
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 114552198 B
(45)授权公告日 2022.07.08
(21)申请号 202210437223.9 (56)对比文件
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