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本发明提供一种图案化单层相位差材料的制造方法,其包括:(I)将包含液晶性聚合物的聚合物组合物涂布在基板上而形成涂膜的工序,上述液晶性聚合物具有:在低于最佳曝光量的曝光量下曝光量越多则取向性增加,在高于最佳曝光量的曝光量下曝光量越多则取向性减少的性质;(II)对工序(I)得到的涂膜照射2次紫外线以产生高各向异性区域和低各向异性区域的工序,其中,至少1次在隔着掩模的同时进行照射,至少1次使用偏振紫外线进行照射,上述高各向异性区域通过照射偏振紫外线而具有高光学各向异性,上述低各向异性区域通过使紫外线的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114616518 A
(43)申请公布日 2022.06.10
(21)申请号 202080074674.X (74)专利代理机构 北京汇思诚业知识产权代理
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