兴趣点周围的半导体布局环境.pdfVIP

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2023-05-12 发布于四川
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公开了用于分析感兴趣点(POI)周围的半导体布局设计的系统和方法。半导体布局设计是基于构成集成电路的部件的平面几何形状的集成电路的表示，并且用于制造集成电路。可以使用一个或多个基于POI的方法来分析布局设计以确定是否修改布局设计。在一种基于POI的方法中，针对下游应用定制的内核集合，与POI周围或围绕POI的布局设计的表示进行卷积，以生成与POI相关联的特征码。进而，可以基于下游应用来分析特征码。另一种基于POI的方法包括分析与POI相关联的几何参数，其可以在设计阶段期间用于识别和修改布局设计中

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114616571 A (43)申请公布日 2022.06.10 (21)申请号 201980101909.7 (74)专利代理机构华进联合专利商标代理有限