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本发明公开了一种用于经皮给药硅基纳米微针阵列的制造工艺，包括以下步骤：S1：在硅基片上沉积一层二氧化硅氧化层；S2：光刻显影，在二氧化硅氧化层表面涂布一层光刻胶，用图形规律分布的掩膜版遮盖到光刻胶上曝光，再进行显影操作，在光刻胶上形成掩膜版上的图形；S3：湿法腐蚀，腐蚀未被光刻胶掩蔽的二氧化硅氧化层，将光刻胶上的图形转移到二氧化硅氧化层上；S4：干法刻蚀，采用边刻蚀边保护的方式刻蚀硅基片，得到上窄下宽的纳米微针阵列结构；S5：湿法去除二氧化硅氧化层，将硅基片顶部的二氧化硅氧化层和光刻胶去除，得到
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114590773 A
(43)申请公布日 2022.06.07
(21)申请号 202210257117.2
(22)申请日 2022.03.16
(71)申请人 胡玉龙
地址 510630 广东
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