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本发明公开了一种宽光谱高反射率的光电器件,主要包括:由(1)~(2)构成的基本结构。(1)是氮化硼层,位于结构上部,是光线的入射面;(2)是硅层,位于结构下部;(1)、(2)材料的厚度均在微米量级或纳米量级。基本结构可以单独构成简单的器件,也可以堆叠组合构成多层的结构;通过基本结构的堆叠,可以针对特定的光谱范围具有高反射率特性,更具有使用的灵活性。本发明通过半导体材料氮化硼和硅的组合形成高反射率的光电器件或光学器件,成本低、易于制备,性能稳定、使用方便,其性能明显优于金属材料结构的高反射膜,具有
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114609712 A
(43)申请公布日 2022.06.10
(21)申请号 202210234953.9
(22)申请日 2022.03.11
(71)申请人 河南工程学院
地址 451191
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