材料沉积布置、真空沉积系统和用于制造材料沉积布置的方法.pdfVIP

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2023-05-12 发布于北京
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材料沉积布置、真空沉积系统和用于制造材料沉积布置的方法.pdf

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描述了一种用于在真空沉积腔室中将材料沉积在基板上的材料沉积布置。所述材料沉积布置包括：坩埚，所述坩埚被配置为通过开口蒸发材料；分配组件，所述分配组件被配置为通过多个喷嘴排出蒸发的材料；以及第一碳环和第二碳环，所述第一碳环和所述第二碳环在所述坩埚与所述分配组件之间，其中所述坩埚包括围绕所述开口向外延伸的第一凸缘，其中所述分配组件包括在与所述坩埚的连接部分处的第二凸缘，其中所述第一凸缘包括在所述第一凸缘的上表面上的第一钼环，其中所述第二凸缘包括在所述第二凸缘的下表面上的第二钼环，并且其中所述第一碳环

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114599814 A (43)申请公布日 2022.06.07 (21)申请号 201980101694.9 (51)Int.Cl.