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本发明公开了一种超黑耐原子氧聚酰亚胺薄膜的制备方法,包括如下步骤:步骤一、填料改性;步骤二、黑色填料和聚酰胺酸复合溶液的制备;将黑色填料、聚酰胺酸、咪唑二胺和联苯二酐混合后形成添加物,添加物与有机溶剂混合,并超声分散0.5‑3小时得到中间溶液;步骤三、将中间溶液浸涂在无孔载体上,放入烘箱中,在氮气氛围下阶梯升温,脱水环化制得超黑耐原子氧聚酰亚胺薄膜。本发明制备得到的超黑耐原子氧聚酰亚胺薄膜在太阳光谱中具有超低的透射率和反射率,在宽的太阳光谱200‑2000nm范围内表现出接近零的超低透射率,并在
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114605824 A
(43)申请公布日 2022.06.10
(21)申请号 202011443525.4 C08J 5/18 (2006.01)
(22)申请日 2020.12.0
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