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本发明涉及一种超结MOSFET器件的仿真方法及仿真模型结构,仿真方法包括:构建电路模型,电路模型包括MOSFET模型、JFET模型、体二极管模型和第一电阻模型Ⅰ、第一电阻模型Ⅱ和第二电阻模型;MOSFET模型漏极与JFET模型源极连接;MOSFET模型源极分别与JFET模型栅极、体二级管模型正极连接;第一电阻模型Ⅰ的第一端与JFET模型漏极连接,第一电阻模型Ⅰ的第二端与第一电阻模型Ⅱ的第一端连接;第一电阻模型Ⅱ的第二端与体二极管模型负极连接。本发明提供的仿真方法能有效模拟超结MOSFET器件在各
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 114580332 B
(45)授权公告日 2022.08.12
(21)申请号 202210485117.8 (56)对比文件
(22)申请日 2022.05.06
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