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公开了半导体装置和电子系统。该半导体装置包括衬底上的栅极堆叠结构、在衬底上在第一方向上延伸并且将栅极堆叠结构分离的分离结构、以及穿透栅极堆叠结构的竖直结构。每个栅极堆叠结构包括单元介电层和包括上电极的电极、在电极与单元介电层之间延伸的阻挡层、在第一方向上延伸并且穿透上电极以将每个上电极分离成在与第一方向相交的第二方向上彼此间隔开的段的分离介电图案、以及分离介电图案与上电极之间的封盖图案。封盖图案位于每个上电极的侧壁上,并且在垂直于衬底的顶表面的第三方向上彼此间隔开。每个封盖图案位于阻挡层的侧壁上
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114613781 A
(43)申请公布日 2022.06.10
(21)申请号 202111454794.5
(22)申请日 2021.12.01
(30)优先权数据
10-2020-0167790
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