一种干蚀刻设备.pdfVIP

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2023-05-13 发布于北京
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一种干蚀刻设备.pdf

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本发明公开了一种干蚀刻设备。干蚀刻设备包括蚀刻腔、第一电极、上部基板、第二电极及支撑构件；其中，第一电极位于蚀刻腔的一侧；上部基板位于第一电极远离所述蚀刻腔的一侧；第二电极位于蚀刻腔的另一侧，与第一电极相对设置；支撑构件一侧与第一电极连接，另一侧与上部基板连接，支撑构件与第一电极或上部基板连接的外表面设有低阻层。本发明中支撑构件可以支撑第一电极与上部基板之间的连接，同时低阻层可以减少支撑构件与第一电极及上部基板之间的摩擦，减少摩擦产生的微粒，提升产品良品率。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114649189 A (43)申请公布日 2022.06.21 (21)申请号 202210292487.X (22)申请日 2022.03.23 (71)申请人深圳市华星光电半导体显示技术有