一种扣除背景辐射影响的温度与发射率测量方法及装置.pdfVIP

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2023-05-13 发布于北京
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一种扣除背景辐射影响的温度与发射率测量方法及装置.pdf

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一种扣除背景辐射影响的温度与发射率测量方法和装置，本发明利用二维转台驱动多通道红外辐射计进行观测方位角在0~360°范围，观测天顶角在0~90°范围下，多个测量点大气下行辐射测量，有效表征了大气下行辐射在反演地表温度和发射率的影响，提高反演精度；基于实验室多种材料的光谱发射率数据库分析，建立了多通道红外辐射计最小发射率与MMD之间的经验关系如公式，并以此为先验条件有效解决地表温度与发射率的耦合作用影响，实现地表温度与发射率高精度分离；采用上位机软件控制装置运行工作，数据采集、存储和处理等，操作简

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114623931 A (43)申请公布日 2022.06.14 (21)申请号 202210087938.6 (22)申请日 2022.01.25 (71)申请人中国科学院合肥物质科学研究院地址