基板处理设备和基板支撑单元.pdfVIP

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2023-05-13 发布于北京
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基板处理设备和基板支撑单元.pdf

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本发明构思涉及一种设置在用于使用等离子体处理基板的设备中的基板支撑单元。在一个实施例中，所述基板支撑单元包括：其上放置所述基板的电介质板、设置在所述电介质板下方并具有第一直径的下电极、将RF功率施加到所述下电极并具有第二直径的电源杆、以及设置在所述下电极下方并通过绝缘构件与所述下电极间隔开第一间隙的接地构件，所述接地构件包括板部分，在所述板部分中形成有供所述电源杆所穿过的通孔，其中所述通孔具有第三直径。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114628215 A (43)申请公布日 2022.06.14 (21)申请号 202111384124.0 (22)申请日 2021.11.15 (30)优先权数据 10-2020-0170465