约束环组件、等离子处理装置及其排气控制方法.pdfVIP

下载本文档

0
0
约1.3万字
约 17页
2023-05-13 发布于北京
举报
版权申诉

约束环组件、等离子处理装置及其排气控制方法.pdf

1、本文档共17页，其中可免费阅读16页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本发明公开了一种约束环组件、等离子处理装置及其排气控制方法，其中该约束环组件包括：约束环，所述的约束环具有多个气体通道，用于将气体排放至约束环下方的排气区域；若干个气体通道调节件，位于所述约束环的下方，每个所述的气体通道调节件包括阻挡件，所述的阻挡件能相对所述约束环移动，对所述约束环的气体通道的间隙进行调节，以将整个约束环分为若干个调节区域。本发明能够利用微观调试工艺改变约束环气体通道的间隙，可分区域调节腔体的环境，改善制程区域不对称的问题，并进一步改善基片的制程均一性问题。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114639585 A (43)申请公布日 2022.06.17 (21)申请号 202011489568.6 (22)申请日 2020.12.16 (71)申请人中微半导体设备（上海）股份有限公