一种解决掩模版着色边界冲突的方法、装置和计算机设备.pdfVIP

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2023-05-13 发布于北京
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一种解决掩模版着色边界冲突的方法、装置和计算机设备.pdf

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本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种解决着色边界冲突的方法、装置及计算机设备，包括以下步骤：S0：提供初始掩模版图；S1：将初始掩模版图划分成多个分块，分块内包含多个子单元，且每个分块内包含初始子单元和关键子单元；S2：选择初始掩模版图预定区域作为初始分块集合，所述初始分块集合包括至少一个分块，并对所述初始分块集合内的每个分块的子单元通过预设的着色函数进行着色，得到着色后的初始分块集合；S3：通过所述着色函数以及着色后的所述初始分块集合中每个分块的所述关键子单元对其他分块进行着色，得到着色掩模图

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114638189 A (43)申请公布日 2022.06.17 (21)申请号 202210260536.1 (22)申请日 2022.03.16 (71)申请人东方晶源微电子科技(北京)有限公