层叠膜结构体和其制造方法.pdfVIP

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2023-05-13 发布于四川
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层叠膜结构体和其制造方法.pdf

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提供：具有高的结晶性和平坦性的层叠膜结构体和其制造方法。该层叠膜结构体具备：Si(111)基板；设置在前述Si(111)基板上的由氮化物系材料和/或铝形成的第1薄膜；和，设置在前述第1薄膜上的由氮化物系材料形成的第2薄膜，在前述Si(111)基板上存在厚度为0nm以上且低于1.0nm的非层晶体，前述层叠膜结构体的表面的(0002)面的摇摆曲线的半值宽度(FWHM)为1.50°以下。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114651084 A (43)申请公布日 2022.06.21 (21)申请号 202080075909.7 (72)发明人土田裕也　末本祐也　上冈义弘　