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用于使用从辐射源(100)发射并且被引导到衬底(300)上的源辐射来测量所述衬底(300)的一个或更多个参数的设备和方法。所述设备包括至少一个反射元件(710a)和至少一个检测器(720,721)。所述至少一个反射元件被配置成接收由所述源辐射从所述衬底的反射所产生的反射辐射,并且还将所述反射辐射反射成另外的反射辐射。至少一个检测器被配置成用于对所述另外的反射辐射进行测量,以用于确定至少所述源辐射和/或所述衬底的对准。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114651214 A
(43)申请公布日 2022.06.21
(21)申请号 202080077676.4 谢特 ·泰门 ·范德波斯特
(22)申请日 2020.10.2
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