使用反馈和前馈控制的纳米压印光刻中的对准控制.pdfVIP

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2023-05-13 发布于四川
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使用反馈和前馈控制的纳米压印光刻中的对准控制.pdf

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提供了用于控制其上支撑有基板的可移动的台架的位置的系统和方法。从传感器获得表示相对于物体上的标记的基板的位置的第一位置信息。基于所获得的第一位置来生成对准预测信息，其中，所生成的对准预测信息包括至少一个参数值。基于所获得的第一位置信息和所生成的对准预测信息来生成包括该至少一个参数值的第一轨迹信息。基于所生成的对准预测信息、第一轨迹信息和第二位置信息来生成第二轨迹信息，其中，第二位置信息表示可移动的台架的位置。基于第二轨迹信息来生成输出控制信号，并且使用输出控制信号基于所生成的输出信号来控制可移动

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114667485 A (43)申请公布日 2022.06.24 (21)申请号 202080078826.3 (74)专利代理机构中国贸促会专利商标事务所