一种基于光谱反馈控制的HiPIMS电源系统.pdfVIP

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2023-05-13 发布于四川
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一种基于光谱反馈控制的HiPIMS电源系统.pdf

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本发明公开一种基于光谱反馈控制的HiPIMS电源系统，采用光谱分析仪实时监测真空内磁控溅射过程中的辉光，将光谱特征转换成电压、电流信号反馈给等离子体电源，从而保证真空磁控溅射镀膜的高质量稳定运行。本发明的A整流滤波电路输入端连市电输入，A整流滤波电路输出端连接A全桥逆变电路，A全桥逆变电路依次经过高频变压器T1、A桥堆整流电路后连接到A斩波电路。本发明能够根据真空磁控溅射过程中的辉光情况实时调整HiPIMS电源的输出特性，从而有效提高了大功率高密度磁控溅射电源的控制精度和稳定度、保证了镀膜工艺的

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114649963 A (43)申请公布日 2022.06.21 (21)申请号 202011512865.8 (22)申请日 2020.12.20 (71)申请人松山湖材料实验室