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本发明涉及一种半导体‑氧化物界面电荷测量仪及其测量方法,所述测量仪包括:光源(1)、探针测试装置(2)和测量组件(3);所述光源(1),用于照射待测芯片;所述探针测试装置(2),用于承载待测芯片,并通过探针测试装置(2)实现待测芯片与测量组件(3)的连接;所述测量组件(3),与探针测试装置(2)连接,用于测量待测芯片的电容‑电压曲线,还用于根据所述电容‑电压曲线计算待测芯片的半导体‑氧化物深能级界面电荷密度。本发明提供的技术方案提高了半导体‑氧化物界面电荷测量的准确性,进而可以更加精确的对工艺质
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114646817 A
(43)申请公布日 2022.06.21
(21)申请号 202011514735.8
(22)申请日 2020.12.21
(71)申请人 全球能源互联网研究院有限公司
地址
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