光致抗蚀剂底层组合物及图案化方法.pdfVIP

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2023-05-13 发布于北京
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光致抗蚀剂底层组合物及图案化方法.pdf

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一种在衬底上形成图案的方法，所述方法包括：在所述衬底的表面上形成光致抗蚀剂底层，其中所述光致抗蚀剂底层由包含聚合物和溶剂的组合物形成，并且所述光致抗蚀剂底层具有大于47at％的碳含量；用金属前体处理所述光致抗蚀剂底层，其中所述金属前体渗入所述光致抗蚀剂底层的自由体积；以及将所述经金属前体处理的光致抗蚀剂底层暴露于氧化剂以提供金属化的光致抗蚀剂底层。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114647152 A (43)申请公布日 2022.06.21 (21)申请号 202111444330.6 (22)申请日 2021.11.30 (30)优先权数据 17/124751 2020.