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本发明属于光学技术领域,具体涉及一种光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法,该方法将将锌粉或铝粉大致均匀地撒在镀有ITO薄膜的光学基底表面;用软性耐腐蚀物蘸取盐酸对ITO薄膜表面反复均匀擦拭,然后将擦拭好的光学基底放在清水槽中用超声波清洗,去除表面水分。该方法对于光学基底表面镀制的ITO薄膜,能够有效、快速地实现去除ITO薄膜,不易损伤光学基底表面。该方法不仅适用于化学稳定性较好的k9玻璃、石英玻璃等光学材料,同时也适用于ZnS、ZnSe、蓝宝石、CaF2、BaF2等易腐蚀易损伤光学基底。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114649195 A
(43)申请公布日 2022.06.21
(21)申请号 202210231012.X
(22)申请日 2022.03.10
(71)申请人 西安应用光学研究所
地址 7100
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