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一种半导体零部件、等离子处理装置及形成耐腐蚀涂层的方法,其中,半导体零部件包括:零部件本体;耐腐蚀涂层,其材料包括稀土氧化物或者稀土氟化物,位于所述零部件本体的表面,所述耐腐蚀涂层具有修饰面,所述修饰面具有原子缺陷,所述原子缺陷被填充离子修饰。所述零部件本体表面的耐腐蚀涂层中的原子缺陷较少,使耐腐蚀涂层具有较强的耐腐蚀能力。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114649179 A
(43)申请公布日 2022.06.21
(21)申请号 202011507108.1
(22)申请日 2020.12.18
(71)申请人 中微半导体设备(上海)股份有限公
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