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本发明公开了一种利用团簇等离子体刻蚀测量聚合物亚层X光电子能谱的方法,该方法主要利用氩离子团簇轰击聚合物表面,将表面几十个纳米深的原子剥离,然后采用X射线辐照聚合物剥离后的表面,产生X射线光电子能谱,准确分析剥离后新界面的元素化合态及含量。本发明将团簇等离子刻蚀技术与X射线光电子能谱相结合,检测半导体不同聚合物薄膜界面层不同深度位置处的X射线光电子能谱,并获得元素化合态和含量,有利于探索聚合物半导体薄膜性质与光电器件性能间的关系,在薄膜分析领域有广泛应用前景。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114689634 A
(43)申请公布日 2022.07.01
(21)申请号 202210211316.X
(22)申请日 2022.03.05
(71)申请人 内蒙古科技大学
地址 01400
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