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本发明提供了一种等离子体处理装置气体供应系统,包括歧管、位于歧管支路上的控制箱和位于歧管干路上的调节箱,利用调节箱的物态变化稳定气体管路中的气体压力。借助不同规格的存气罐,对管路中气体流量的大幅变化起到缓冲作用。在管路外壁还设置有加热装置,防止低压气体的液化导致的堵塞。同时将干路的内径增加,也起到了一定的缓冲作用。该系统可以提供稳定的气体压力平衡,抗扰能力突出,对于持续保持等离子体反应时气体的比例具有显著效果,此外,相比从厂务端单独向反应腔接通输气管线,本发明的气体供应系统节省了成本,降低了厂务
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114688457 A
(43)申请公布日 2022.07.01
(21)申请号 202011586160.0 F16L 55/04 (2006.01)
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