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本发明公开一种半导体器件及其制作方法、封装结构,包括:提供第一衬底,第一衬底包括含有读出电路的第一基底,以及第一基底上具有互连电路的第一介质层,互连电路连接读出电路,第一介质层设有空腔;在空腔中填充第一牺牲层;在第一衬底上形成感测元件,感测元件与互连电路电连接;释放第一牺牲层。本发明通过提供带有读出电路和空腔的第一衬底并在空腔中填充第一牺牲层,再在第一衬底上形成感测元件的工艺并实现电连接,能够在同一晶圆工艺平台上完成读出电路与感测元件两种不同制作工艺的集成,避免了通过打线将其键合在一起,减小噪声
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114695635 A
(43)申请公布日 2022.07.01
(21)申请号 202011583867.6 B81B 7/00 (2006.01)
(22)申请日 2020.12.2
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