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本申请公开了一种应用于化学机械研磨工艺中的干燥方法,包括:在进行化学机械研磨工艺后,将晶圆放置在清洗单元的置物台上,旋转晶圆;在旋转晶圆的过程中,喷涂异丙醇和去离子水,使化学机械研磨中产生的副产物附着在去离子水中被甩出;停止上述步骤,对晶圆进行干燥处理。本申请通过在进行化学机械研磨工艺后,在对晶圆进行旋转甩干的过程中,喷涂异丙醇和去离子水使化学机械研磨中产生的副产物附着在去离子水中被甩出,从而提高了副产物的去除效果,进而提高了产品的可靠性和良率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114743863 A
(43)申请公布日 2022.07.12
(21)申请号 202210250436.0
(22)申请日 2022.03.15
(71)申请人 华虹半导体(无锡)有限公司
地址
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